Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Standard method for measuring resistivity of silicon slices by noncontacting technique
NEPLATNÁ vydána dne 1.1.1986
Vybrané provedení:Test method for measuring resistivity of semiconductor silicon or sheet resistance of semiconductor films with a noncontact eddy-current gage
NEPLATNÁ vydána dne 18.4.1995
Vybrané provedení:Test methods for measuring resistivity of semiconductor wafers or sheet resistance of semiconductor films with a noncontact eddy-current gauge
NEPLATNÁ vydána dne 30.10.2009
Vybrané provedení:Standard method for measuring resistivity of silicon wafers using spreading resistance probe
NEPLATNÁ vydána dne 1.1.1986
Vybrané provedení:Test method for measuring resistivity of silicon wafers using spreading resistance probe
NEPLATNÁ vydána dne 18.4.1995
Vybrané provedení:Standard method for measuring thickness and total thickness variation of silicon slices
NEPLATNÁ vydána dne 1.1.1986
Vybrané provedení:Test method for thickness and total thickness variation of silicon slices
NEPLATNÁ vydána dne 18.4.1995
Vybrané provedení:Standard method for measuring bow of silicon slices
NEPLATNÁ vydána dne 1.1.1986
Vybrané provedení:Test methods for bow of silicon slices
NEPLATNÁ vydána dne 18.4.1995
Vybrané provedení:-
NEPLATNÁ vydána dne 1.1.1978
Vybrané provedení:Poslední aktualizace: 20.06.2026 (Počet položek: 2 283 412)
© Copyright 2026 NORMSERVIS s.r.o.