Zobrazení ceny: bez DPH
Zobrazovaná měna:
Řadit dle:

Upřesnit výběr pro "ASTM - Všechny - strana 9039" dle:    


ASTM F949-09 Historická

Standard Specification for Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Corrugated Sewer Pipe With a Smooth Interior and Fittings

NEPLATNÁ vydána dne 1.8.2009

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
2 028.10


SKLADEM
ASTM F949-10 Historická

Standard Specification for Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Corrugated Sewer Pipe With a Smooth Interior and Fittings

NEPLATNÁ vydána dne 1.2.2010

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
2 028.10


SKLADEM
ASTM F949-15 Historická

Standard Specification for Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Corrugated Sewer Pipe With a Smooth Interior and Fittings

NEPLATNÁ vydána dne 1.4.2015

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
2 028.10


SKLADEM
ASTM F949-15(2019) Historická

Standard Specification for Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Corrugated Sewer Pipe With a Smooth Interior and Fittings

NEPLATNÁ vydána dne 1.8.2019

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
2 028.10


SKLADEM
ASTM F949-20 Historická

Standard Specification for Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Corrugated Sewer Pipe With a Smooth Interior and Fittings

NEPLATNÁ vydána dne 15.2.2020

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
2 028.10


SKLADEM
ASTM F95-89(2000) Historická

Standard Test Method for Thickness of Lightly Doped Silicon Epitaxial Layers on Heavily Doped Silicon Substrates Using an Infrared Dispersive Spectrophotometer (Withdrawn 2003)

NEPLATNÁ vydána dne 1.1.2000

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
1 816.80


SKLADEM
ASTM F950-02 Historická

Standard Test Method for Measuring the Depth of Crystal Damage of a Mechanically Worked Silicon Slice Surface by Angle Polishing and Defect Etching (Withdrawn 2003)

NEPLATNÁ vydána dne 10.12.2002

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
1 816.80


SKLADEM
ASTM F950-98 Historická

Standard Test Method for Measuring the Depth of Crystal Damage of a Mechanically Worked Silicon Slice Surface by Angle Polishing and Defect Etching

NEPLATNÁ vydána dne 10.5.1998

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
1 816.80


SKLADEM
ASTM F951-01 Historická

Standard Test Method for Determination of Radial Interstitial Oxygen Variation in Silicon Wafers

NEPLATNÁ vydána dne 10.1.2002

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
1 816.80


SKLADEM
ASTM F951-02 Historická

Standard Test Method for Determination of Radial Interstitial Oxygen Variation in Silicon Wafers (Withdrawn 2003)

NEPLATNÁ vydána dne 10.1.2002

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
1 816.80


SKLADEM

Zobrazen záznam od 90380 až 90390 z celkem 91730 záznamů.


Potřebujete pomoci?


Cookies Cookies

Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.

Souhlas můžete odmítnout zde.

Zde máte možnost přizpůsobit si nastavení souborů cookies v souladu s vlastními preferencemi.

Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů.