ASTM F950-98

Standard Test Method for Measuring the Depth of Crystal Damage of a Mechanically Worked Silicon Slice Surface by Angle Polishing and Defect Etching

Automaticky přeložený název:

Standardní zkušební metoda pro měření hloubky Crystal Poškození jednoho mechanicky opracované Silicon Slice povrchu Angle leštění a defektů Leptání



NORMA vydána dne 10.5.1998


Jazyk
Provedení
DostupnostSKLADEM
Cena2010.10 bez DPH
2 010.10

Informace o normě:

Označení normy: ASTM F950-98
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 10.5.1998
Kód zboží: NS-57041
Počet stran: 5
Přibližná hmotnost: 15 g (0.03 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM

Anotace textu normy ASTM F950-98 :

Keywords:

bevel polish, damage-depth, defect, preferential etch, silicon, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)

Doporučujeme:

Aktualizace technických norem

Chcete mít jistotu, že používáte pouze platné technické normy?
Nabízíme Vám řešení, které Vám zajistí měsíční přehled o aktuálnosti norem, které používáte.

Chcete vědět více informací? Podívejte se na tuto stránku.




Cookies Cookies

Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.

Souhlas můžete odmítnout zde.

Zde máte možnost přizpůsobit si nastavení souborů cookies v souladu s vlastními preferencemi.

Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů.