Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications (Withdrawn 2020)
Automaticky přeložený název:
Standardní Guide pro analýzu a reporting obsah nečistot a stupeň vysoké čistoty Kovové rozprašovacích pro elektronickou Thin Film aplikací
NORMA vydána dne 1.6.2011
Označení normy: ASTM F2113-01(2011)
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 1.6.2011
Kód zboží: NS-52871
Počet stran: 2
Přibližná hmotnost: 6 g (0.01 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM
Keywords:
electronics, purity analysis, purity grade, sputtering, target, thin film, Electronic thin-film applications, High-purity metallic sputtering targets, Impurities--electronic materials/applications, Semiconductor device testing, Sputtering process/targets, Target specifications, Thin film applications, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)
1. Scope | ||
1.1 This guide covers sputtering targets used as thin film source material in fabricating semiconductor electronic devices. It should be used to develop target specifications for specific materials and should be referenced therein. 1.2 This standard sets purity grade levels, analytical methods and impurity content reporting method and format. 1.2.1 The grade designation is a measure of total metallic impurity content. The grade designation does not necessarily indicate suitability for a particular application because factors other than total metallic impurity may influence performance. |
||
2. Referenced Documents | ||
|
Historická
1.11.2013
Historická
1.11.2012
Historická
1.11.2011
Historická
1.6.2011
Historická
1.5.2013
Historická
15.6.2008
Poslední aktualizace: 25.08.2024 (Počet položek: 2 344 896)
© Copyright 2024 NORMSERVIS s.r.o.