Pozor!

Ve Vašem prohlížeči není aktuálně povoleno spouštění Javascriptu. Je možné, že některé funkce nebudou fungovat správně. Pro plnou funkčnost internetového obchodu doporučujeme povolit Javascript. Zde jsou instrukce jak povolit JavaScript ve Vašem webovém prohlížeči.

Zobrazovaná měna: Kč

Zobrazení ceny: bez DPH

NEPLATNÁ ASTM F2113-01(2011) 1.6.2011 náhled

Doplňující informace

ASTM F2113-01(2011)

Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications (Withdrawn 2020)

Automaticky přeložený název:

Standardní Guide pro analýzu a reporting obsah nečistot a stupeň vysoké čistoty Kovové rozprašovacích pro elektronickou Thin Film aplikací

NORMA vydána dne 1.6.2011

Jazyk
Provedení	PDF - okamžité stažení - 1 549.70 Kč Tištěné - 1 549.70 Kč
Dostupnost	SKLADEM
Cena	1 549.70 Kč bez DPH
1 549.70 Kč

Informace o normě:

Označení normy: ASTM F2113-01(2011)
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 1.6.2011
Kód zboží: NS-52871
Počet stran: 2
Přibližná hmotnost: 6 g (0.01 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM

Tisk

Odeslat známému

Dotaz

Kategorie - podobné normy:

Polovodičové materiály

Anotace textu normy ASTM F2113-01(2011) :

Keywords:
electronics, purity analysis, purity grade, sputtering, target, thin film, Electronic thin-film applications, High-purity metallic sputtering targets, Impurities--electronic materials/applications, Semiconductor device testing, Sputtering process/targets, Target specifications, Thin film applications, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)

Doplňující informace

1. Scope

1.1 This guide covers sputtering targets used as thin film source material in fabricating semiconductor electronic devices. It should be used to develop target specifications for specific materials and should be referenced therein.

1.2 This standard sets purity grade levels, analytical methods and impurity content reporting method and format.

1.2.1 The grade designation is a measure of total metallic impurity content. The grade designation does not necessarily indicate suitability for a particular application because factors other than total metallic impurity may influence performance.

2. Referenced Documents

F1593-08

Standard Test Method for Trace Metallic Impurities in Electronic Grade Aluminum by High Mass-Resolution Glow-Discharge Mass Spectrometer