ASTM F2113-01(2011)

Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications (Withdrawn 2020)

Automaticky přeložený název:

Standardní Guide pro analýzu a reporting obsah nečistot a stupeň vysoké čistoty Kovové rozprašovacích pro elektronickou Thin Film aplikací



NORMA vydána dne 1.6.2011


Jazyk
Provedení
DostupnostSKLADEM
Cena1574.30 bez DPH
1 574.30

Informace o normě:

Označení normy: ASTM F2113-01(2011)
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 1.6.2011
Kód zboží: NS-52871
Počet stran: 2
Přibližná hmotnost: 6 g (0.01 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM

Kategorie - podobné normy:

Polovodičové materiály

Anotace textu normy ASTM F2113-01(2011) :

Keywords:

electronics, purity analysis, purity grade, sputtering, target, thin film, Electronic thin-film applications, High-purity metallic sputtering targets, Impurities--electronic materials/applications, Semiconductor device testing, Sputtering process/targets, Target specifications, Thin film applications, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)

Doporučujeme:

EviZak - všechny zákony včetně jejich evidence na jednom místě

Poskytování aktuálních informací o legislativních předpisech vyhlášených ve Sbírce zákonů od roku 1945.
Aktualizace 2x v měsíci !

Chcete vědět více informací? Podívejte se na tuto stránku.




Cookies Cookies

Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.

Souhlas můžete odmítnout zde.

Zde máte možnost přizpůsobit si nastavení souborů cookies v souladu s vlastními preferencemi.

Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů.