Cookies
Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
ASTM E2444-11(2018)
Standard Terminology Relating to Measurements Taken on Thin, Reflecting Films
Přeložit název
NORMA vydána dne 1.5.2018
Informace o normě:
Označení normy: ASTM E2444-11(2018)
Datum vydání normy: 1.5.2018
Kód zboží: NS-848389
Počet stran: 2
Přibližná hmotnost: 6 g (0.01 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM
Kategorie - podobné normy:
Elektronika (názvosloví)
Mechanické konstrukce pro elektronická zařízení
Anotace textu normy ASTM E2444-11(2018) :
Keywords:
cantilevers, definitions, fixed-fixed beams, interferometry, length measurements, microelectromechanical systems, MEMS, polysilicon, residual strain, stiction, strain gradient, terminology, test structure,, ICS Number Code 01.040.31 (Electronics (Vocabularies)), 31.240 (Mechanical structures for electronic equipment)
Doplňující informace
| 1. Scope | ||||||||
|
1.1 This standard consists of terms and definitions pertaining to measurements taken on thin, reflecting films, such as found in microelectromechanical systems (MEMS) materials. In particular, the terms are related to the standards in Section 2, which were generated by Committee E08 on Fatigue and Fracture. Terminology E1823 Relating to Fatigue and Fracture Testing is applicable to this standard. 1.2 The terms are listed in alphabetical order. 1.3 This international standard was developed in accordance with internationally recognized principles on standardization established in the Decision on Principles for the Development of International Standards, Guides and Recommendations issued by the World Trade Organization Technical Barriers to Trade (TBT) Committee. |
||||||||
| 2. Referenced Documents | ||||||||
|
Doporučujeme:
