Pozor!

Ve Vašem prohlížeči není aktuálně povoleno spouštění Javascriptu. Je možné, že některé funkce nebudou fungovat správně. Pro plnou funkčnost internetového obchodu doporučujeme povolit Javascript. Zde jsou instrukce jak povolit JavaScript ve Vašem webovém prohlížeči.

Zobrazovaná měna: Kč

Zobrazení ceny: bez DPH

NEPLATNÁ ASTM E2246-11e1 1.11.2011 náhled

Doplňující informace

ASTM E2246-11e1

Standard Test Method for Strain Gradient Measurements of Thin, Reflecting Films Using an Optical Interferometer (Includes all amendments And changes 5/28/2018).

Automaticky přeložený název:

Standardní zkušební metoda pro Strain Gradient měření tenkých, což je odrazem filmy pomocí optického Interferometr

NORMA vydána dne 1.11.2011

Jazyk
Provedení	PDF - okamžité stažení - 2 514.60 Kč Tištěné - 2 514.60 Kč
Dostupnost	SKLADEM
Cena	2 514.60 Kč bez DPH
2 514.60 Kč

Informace o normě:

Označení normy: ASTM E2246-11e1
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 1.11.2011
Kód zboží: NS-44787
Počet stran: 21
Přibližná hmotnost: 63 g (0.14 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM

Tisk

Odeslat známému

Dotaz

Kategorie - podobné normy:

Fotografické papíry, filmy a kazety

Anotace textu normy ASTM E2246-11e1 :

Keywords:
cantilevers, combined standard uncertainty, fixed-fixed beams, interferometry, length measurements, microelectromechanical systems, MEMS, polysilicon, residual strain, round robin, stiction, strain gradient, test structure, ICS Number Code 37.040.20 (Photographic paper, film and plates. Cartridges)

Doplňující informace

Significance and Use

Strain gradient values are an aid in the design and fabrication of MEMS devices.

1. Scope

1.1 This test method covers a procedure for measuring the strain gradient in thin, reflecting films. It applies only to films, such as found in microelectromechanical systems (MEMS) materials, which can be imaged using an optical interferometer, also called an interferometric microscope. Measurements from cantilevers that are touching the underlying layer are not accepted.

1.2 This test method uses a non-contact optical interferometric microscope with the capability of obtaining topographical 3-D data sets. It is performed in the laboratory.

1.3 This standard does not purport to address all of the safety concerns, if any, associated with its use. It is the responsibility of the user of this standard to establish appropriate safety and health practices and determine the applicability of regulatory limitations prior to use.

2. Referenced Documents

E2244-11	Standard Test Method for In-Plane Length Measurements of Thin, Reflecting Films Using an Optical Interferometer
E2245-11	Standard Test Method for Residual Strain Measurements of Thin, Reflecting Films Using an Optical Interferometer
E2444-11(2018)	Standard Terminology Relating to Measurements Taken on Thin, Reflecting Films
E2530-06	Standard Practice for Calibrating the Z-Magnification of an Atomic Force Microscope at Subnanometer Displacement Levels Using Si(111) Monatomic Steps (Withdrawn 2015)
MS2	Test Method for Step Height Measurements of Thin Films