Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy — Amendment 1
Automaticky přeložený název:
Povrchová chemická analýza - Chemické metody pro sběr prvků z povrchu křemíkového plátku - pracovní referenční materiály a jejich odhodlání tím, totální odraz - X - ray fluorescence ( TXRF ) spektroskopie
NORMA vydána dne 5.7.2010
Označení normy: ISO 17331:2004/Amd1:2010
Poznámka: Změna
Datum vydání normy: 5.7.2010
Kód zboží: NS-427603
Počet stran: 2
Přibližná hmotnost: 6 g (0.01 liber)
Země: Mezinárodní technická norma
Kategorie: Technické normy ISO
Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
(Analyse chimique des surfaces — Méthodes chimiques pour collecter les éléments analysés de tranches de silicium comme matériaux de référence pour l´analyse par spectroscopie de fluorescence X en réflexion totale (TXRF))
Norma vydána dne 18.5.2004
Vybrané provedení:Poslední aktualizace: 17.05.2026 (Počet položek: 2 278 942)
© Copyright 2026 NORMSERVIS s.r.o.