Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods.
Automaticky přeložený název:
Polovodičové součástky - Micro-elektromechanické zařízení - Část 16: Zkušební metody pro stanovení pnutí MEMS filmů - oplatkové zakřivení a konzolové odrazu paprsku metody.
NORMA vydána dne 1.11.2012
Označení normy: E DIN EN 62047-16:2012-11
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 1.11.2012
Kód zboží: NS-292591
Počet stran: 18
Přibližná hmotnost: 54 g (0.12 liber)
Země: Německá technická norma (Návrh)
Kategorie: Technické normy DIN
Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 16: Messverfahren zur Ermittlung der Eigenspannungen in Dünnschichten von MEMS-Bauteilen - Substratkrümmungs- und Biegebalken-Verfahren.
Poskytování aktuálních informací o legislativních předpisech vyhlášených ve Sbírce zákonů od roku 1945.
Aktualizace 2x v měsíci !
Chcete vědět více informací? Podívejte se na tuto stránku.
Poslední aktualizace: 25.09.2024 (Počet položek: 2 350 354)
© Copyright 2024 NORMSERVIS s.r.o.