Cookies
Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
E DIN EN 62047-16:2012-11 (Návrh)
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods.
Automaticky přeložený název:
Polovodičové součástky - Micro-elektromechanické zařízení - Část 16: Zkušební metody pro stanovení pnutí MEMS filmů - oplatkové zakřivení a konzolové odrazu paprsku metody.
NORMA vydána dne 1.11.2012
Informace o normě:
Označení normy: E DIN EN 62047-16:2012-11
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 1.11.2012
Kód zboží: NS-292591
Počet stran: 18
Přibližná hmotnost: 54 g (0.12 liber)
Země: Německá technická norma (Návrh)
Kategorie: Technické normy DIN
Anotace textu normy E DIN EN 62047-16:2012-11 :
Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 16: Messverfahren zur Ermittlung der Eigenspannungen in Dünnschichten von MEMS-Bauteilen - Substratkrümmungs- und Biegebalken-Verfahren.
Doporučujeme:
