Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods.
Automaticky přeložený název:
Polovodičové součástky - Micro-elektromechanické zařízení - Část 16: Zkušební metody pro stanovení pnutí MEMS filmů - oplatkové zakřivení a konzolové odrazu paprsku metody.
NORMA vydána dne 1.11.2012
Označení normy: E DIN EN 62047-16:2012-11
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 1.11.2012
Kód zboží: NS-292591
Počet stran: 18
Přibližná hmotnost: 54 g (0.12 liber)
Země: Německá technická norma (Návrh)
Kategorie: Technické normy DIN
Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 16: Messverfahren zur Ermittlung der Eigenspannungen in Dünnschichten von MEMS-Bauteilen - Substratkrümmungs- und Biegebalken-Verfahren.
Chcete pravidelně odebírat informace o nově vycházejících normách z celého světa a to zcela zdarma?
Přihlašte se k odběru. Vše je velice jednoduché a absolutně ZDARMA.
Na výběr máte vydavatele z celého světa.
Poslední aktualizace: 13.10.2025 (Počet položek: 2 236 956)
© Copyright 2025 NORMSERVIS s.r.o.