Cookies
Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
DIN EN 62047-16:2015-12
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods.
Automaticky přeložený název:
Polovodičové přístroje - Micro- elektromechanická zařízení - Část 16: Zkušební metody pro stanovení pnutí MEMS filmů - oplatkové zakřivení a konzolové odrazu paprsku metody.
NORMA vydána dne 1.12.2015
Informace o normě:
Označení normy: DIN EN 62047-16:2015-12
Datum vydání normy: 1.12.2015
Kód zboží: NS-620810
Počet stran: 13
Přibližná hmotnost: 39 g (0.09 liber)
Země: Německá technická norma
Kategorie: Technické normy DIN
Kategorie - podobné normy:
Polovodičová zařízení obecně
Elektromechanické komponenty obecně
Anotace textu normy DIN EN 62047-16:2015-12 :
Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 16: Messverfahren zur Ermittlung der Eigenspannungen in Dünnschichten von MEMS-Bauteilen - Substratkrümmungs- und Biegebalken-Verfahren.
Doporučujeme:
Aktualizace zákonů
Chcete mít jistotu o platnosti užívaných předpisů?
Nabízíme Vám řešení, abyste mohli používat stále platné (aktuální) legislativní předpisy.
Chcete vědět více informací? Podívejte se na tuto stránku.
