Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Method for Measurement of Oxide Thickness on Silicon Wafers and Metallization Thickness by Multiple-Beam Interference (Tolansky Method) (Withdrawn 1993)
Automaticky přeložený název:
Metoda měření oxidu tloušťky na křemíkových plátků a pokovování tloušťky pomocí Multiple - Beam rušení ( Tolansky metoda) (Withdrawn 1993 )
Označení normy: ASTM F388-84
Poznámka: NEPLATNÁ
Kód zboží: NS-55128
Počet stran: 6
Přibližná hmotnost: 18 g (0.04 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM
Keywords:
ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)
Chcete mít jistotu, že používáte pouze platné technické normy?
Nabízíme Vám řešení, které Vám zajistí měsíční přehled o aktuálnosti norem, které používáte.
Chcete vědět více informací? Podívejte se na tuto stránku.
Poslední aktualizace: 23.12.2024 (Počet položek: 2 217 157)
© Copyright 2024 NORMSERVIS s.r.o.