IEC - Mezinárodní elektrotechnická organizace - strana 789

Normy IEC - Mezinárodní elektrotechnická organizace - strana 789

IEC - Společnost IEC je přední světová organizace, která vytváří a vydává Mezinárodní normy pro veškeré elektrické, elektronické a další související technologie, které se souhrnně nazývají "elektrotechnologie". Všude tam, kde se nachází elektřina a elektronika, najdete i společnost IEC, která prosazuje bezpečnost a výkon, životní prostředí, účinnost elektřiny a obnovitelné energie. Společnost IEC také spravuje systémy pro posuzování shody, které prokazují, že zařízení, systémy či komponenty vyhovují Mezinárodním normám této společnosti.

Zobrazení ceny: bez DPH
Zobrazovaná měna:
Řadit dle:

Upřesnit výběr pro "Normy IEC - strana 789" dle:    


IEC 62047-13-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 13: Bend - and shear - type test methods of measuring adhesive strength for MEMS structures
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 13: Methodes d´essais de types courbure et cisaillement de mesure de la resistance d´adherence pour les structures MEMS)

Norma vydána dne 28.2.2012

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
2 537.50


SKLADEM
IEC 62047-14-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 14: Forming limit measuring method of metallic film materials
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 14: Methode de mesure des limites de formage des materiaux a couche metallique)

Norma vydána dne 28.2.2012

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
3 647.60


SKLADEM
IEC 62047-16-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 16: Methodes d´essai pour determiner les contraintes residuelles des films de MEMS - Methodes de la courbure de la plaquette et de deviation de poutre en porte-a-faux)

Norma vydána dne 5.3.2015

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
1 268.70


SKLADEM
IEC 62047-17-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 17: Bulge test method for measuring mechanical properties of thin films
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 17: Methode d´essai de renflement pour la mesure des proprietes mecaniques des couches minces)

Norma vydána dne 5.3.2015

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
6 343.70


SKLADEM
IEC 62047-18-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 18: Bend testing methods of thin film materials
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 18: Methodes d´essai de flexion des materiaux en couche mince)

Norma vydána dne 17.7.2013

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
2 537.50


SKLADEM
IEC 62047-19-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 19: Electronic compasses
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 19: Compas electroniques)

Norma vydána dne 17.7.2013

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
6 343.70


SKLADEM
IEC 62047-2-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 2: Tensile testing method of thin film materials
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 2: Methode d´essai de traction des materiaux en couche mince)

Norma vydána dne 15.8.2006

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
2 537.50


SKLADEM
IEC 62047-20-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 20: Gyroscopes
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 20: Gyroscopes)

Norma vydána dne 26.6.2014

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
10 149.90


SKLADEM
IEC 62047-21-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 21: Test method for Poisson´s ratio of thin film MEMS materials
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 21: Methode d´essai relative au coefficient de Poisson des materiaux MEMS en couche mince)

Norma vydána dne 19.6.2014

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
2 537.50


SKLADEM
IEC 62047-22-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 22: Electromechanical tensile test method for conductive thin films on flexible substrates
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 22: Methode d´essai de traction electromecanique pour les couches minces conductrices sur des substrats souples)

Norma vydána dne 19.6.2014

Vybrané provedení:

Zobrazit všechny technické informace
1 268.70


SKLADEM

Zobrazen záznam od 7880 až 7890 z celkem 11189 záznamů.


Potřebujete pomoci?


Cookies Cookies

Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.

Souhlas můžete odmítnout zde.

Zde máte možnost přizpůsobit si nastavení souborů cookies v souladu s vlastními preferencemi.

Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů.