Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Silicon slices and wafers—Measuring of diameter—Micrometer method
NEPLATNÁ vydána dne 6.2.1993
Vybrané provedení:Test method for sheet resistance of silicon epitaxial, diffused and ion-implanted layers using a collinear four-probe array
NEPLATNÁ vydána dne 6.2.1993
Vybrané provedení:Test method for crystallographic perfection of epitaxial layers in silicon by etching techniques
NEPLATNÁ vydána dne 6.2.1993
Vybrané provedení:300900m Silicon slices—Measuring of interstitial oxygen content—Infrared absorption method
NEPLATNÁ vydána dne 6.2.1993
Vybrané provedení:Test method for determination of radial interstitial oxygen variation in silicon
NEPLATNÁ vydána dne 6.2.1993
Vybrané provedení:Test method for stacking fault density of epitaxial layers of silicon by interference-contrast microscopy
NEPLATNÁ vydána dne 6.2.1993
Vybrané provedení:Silicon epitaxial layers—Determination of carrier concentration—Mercury probe Valtage-capacitance method
NEPLATNÁ vydána dne 6.2.1993
Vybrané provedení:Silicon epitaxial layers-determination of carrier concentration-mercury probe voltages-capacitance method
NEPLATNÁ vydána dne 30.10.2009
Vybrané provedení:Standard permissible limits of release of lead or cadmium from ceramic packaging vessel in contact with food
NEPLATNÁ vydána dne 15.2.1993
Vybrané provedení:Glass blank of ophthalmic lenses
NEPLATNÁ vydána dne 15.2.1993
Vybrané provedení:Poslední aktualizace: 24.03.2026 (Počet položek: 2 269 385)
© Copyright 2026 NORMSERVIS s.r.o.