Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
ASTM - Společnost ASTM International je jednou z největších nezávislých organizací pro rozvoj norem ve světě - spolehlivý zdroj technických norem pro materiály, výrobky, systémy a služby. Normy společnosti ASTM International jsou známé svojí vysokou technickou kvalitou a aktuálností v rámci trhu, a proto hrají důležitou roli v informační infrastruktuře, která řídí projekci, výrobu a obchod v globální ekonomice. ASTM vydává normy zabývající se kovy, hořlavostí, chemickými výrobky, mazivy, fosilními palivy, textiliemi, barvami, pryží, potrubím, forenzními vědami, elektronikou, energetikou, lékařskými přístroji a bezpočtem dalších témat.
Standard Specification for Smooth-Wall Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Conduit and Fittings for Underground Installation (Includes all amendments And changes 8/16/2017).
NEPLATNÁ vydána dne 10.9.1995
Vybrané provedení:Standard Safety Specification for Eye and Face Protective Equipment for Hockey Players
NEPLATNÁ vydána dne 10.6.2000
Vybrané provedení:Standard Safety Specification for Eye and Face Protective Equipment for Hockey Players
NEPLATNÁ vydána dne 1.5.2007
Vybrané provedení:Standard Specification for Eye and Face Protective Equipment for Hockey Players
NEPLATNÁ vydána dne 1.1.2012
Vybrané provedení:Standard Specification for Eye and Face Protective Equipment for Hockey Players
NEPLATNÁ vydána dne 1.4.2018
Vybrané provedení:Specification for Polished Monocrystalline Silicon Slices (Withdrawn 1984)
Vybrané provedení:Method for Laboratory Test for Force and Moment Properties of Passenger Car Tires (Withdrawn 1988)
Vybrané provedení:Method for Laboratory Test for Force and Moment Properties of Passenger Car Tires (Includes all amendments And changes 8/13/2021).
NEPLATNÁ vydána dne 1.1.1983
Vybrané provedení:Practice for Aligning a Visible Beam From a Continuous-Wave Laser at a Desired Distance From a Reference Surface (Withdrawn 1994)
Vybrané provedení:Practice for Determining Effective Adhesion of Photoresist to Hard-Surface Photomask Banks and Semiconductor Wafers During Etching (Withdrawn 1996)
Vybrané provedení:Poslední aktualizace: 02.01.2026 (Počet položek: 2 253 797)
© Copyright 2026 NORMSERVIS s.r.o.