Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
ASTM - Společnost ASTM International je jednou z největších nezávislých organizací pro rozvoj norem ve světě - spolehlivý zdroj technických norem pro materiály, výrobky, systémy a služby. Normy společnosti ASTM International jsou známé svojí vysokou technickou kvalitou a aktuálností v rámci trhu, a proto hrají důležitou roli v informační infrastruktuře, která řídí projekci, výrobu a obchod v globální ekonomice. ASTM vydává normy zabývající se kovy, hořlavostí, chemickými výrobky, mazivy, fosilními palivy, textiliemi, barvami, pryží, potrubím, forenzními vědami, elektronikou, energetikou, lékařskými přístroji a bezpočtem dalších témat.
Standard Specification for Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Corrugated Sewer Pipe With a Smooth Interior and Fittings
NEPLATNÁ vydána dne 1.10.2003
Vybrané provedení:Standard Specification for Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Corrugated Sewer Pipe With a Smooth Interior and Fittings
NEPLATNÁ vydána dne 1.3.2006
Vybrané provedení:Standard Specification for Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Corrugated Sewer Pipe With a Smooth Interior and Fittings (Includes all amendments And changes 12/31/2010).
NEPLATNÁ vydána dne 1.8.2006
Vybrané provedení:Standard Specification for Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Corrugated Sewer Pipe With a Smooth Interior and Fittings
NEPLATNÁ vydána dne 1.8.2009
Vybrané provedení:Standard Specification for Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Corrugated Sewer Pipe With a Smooth Interior and Fittings
NEPLATNÁ vydána dne 1.2.2010
Vybrané provedení:Standard Specification for Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Corrugated Sewer Pipe With a Smooth Interior and Fittings
NEPLATNÁ vydána dne 1.4.2015
Vybrané provedení:Standard Specification for Poly(Vinyl Chloride) (PVC) Corrugated Sewer Pipe With a Smooth Interior and Fittings
NEPLATNÁ vydána dne 1.8.2019
Vybrané provedení:Standard Test Method for Thickness of Lightly Doped Silicon Epitaxial Layers on Heavily Doped Silicon Substrates Using an Infrared Dispersive Spectrophotometer (Withdrawn 2003)
NEPLATNÁ vydána dne 1.1.2000
Vybrané provedení:Standard Test Method for Measuring the Depth of Crystal Damage of a Mechanically Worked Silicon Slice Surface by Angle Polishing and Defect Etching (Withdrawn 2003)
NEPLATNÁ vydána dne 10.12.2002
Vybrané provedení:Standard Test Method for Measuring the Depth of Crystal Damage of a Mechanically Worked Silicon Slice Surface by Angle Polishing and Defect Etching
NEPLATNÁ vydána dne 10.5.1998
Vybrané provedení:Poslední aktualizace: 21.07.2024 (Počet položek: 2 338 123)
© Copyright 2024 NORMSERVIS s.r.o.