Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
ASTM - Společnost ASTM International je jednou z největších nezávislých organizací pro rozvoj norem ve světě - spolehlivý zdroj technických norem pro materiály, výrobky, systémy a služby. Normy společnosti ASTM International jsou známé svojí vysokou technickou kvalitou a aktuálností v rámci trhu, a proto hrají důležitou roli v informační infrastruktuře, která řídí projekci, výrobu a obchod v globální ekonomice. ASTM vydává normy zabývající se kovy, hořlavostí, chemickými výrobky, mazivy, fosilními palivy, textiliemi, barvami, pryží, potrubím, forenzními vědami, elektronikou, energetikou, lékařskými přístroji a bezpočtem dalších témat.
Standard Practice for Measuring Intergranular Attack or End Grain Pitting on Metals Caused by Aircraft Chemical Processes (Includes all amendments And changes 8/27/2012).
NEPLATNÁ vydána dne 1.9.2005
Vybrané provedení:Standard Practice for Measuring Intergranular Attack or End Grain Pitting on Metals Caused by Aircraft Chemical Processes (Includes all amendments And changes 7/6/2017).
NEPLATNÁ vydána dne 1.12.2011
Vybrané provedení:Standard Practice for Measuring Intergranular Attack or End Grain Pitting on Metals Caused by Aircraft Chemical Processes (Includes all amendments And changes 1/19/2023).
NEPLATNÁ vydána dne 1.6.2017
Vybrané provedení:Standard Terminology for Membrane Switches
NEPLATNÁ vydána dne 10.3.2002
Vybrané provedení:Standard Terminology for Membrane Switches
NEPLATNÁ vydána dne 10.3.2002
Vybrané provedení:Standard Terminology for Membrane Switches
NEPLATNÁ vydána dne 1.2.2011
Vybrané provedení:Standard Terminology for Membrane Switches (Withdrawn 2023)
NEPLATNÁ vydána dne 1.12.2019
Vybrané provedení:Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications
NEPLATNÁ vydána dne 10.6.2001
Vybrané provedení:Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications
NEPLATNÁ vydána dne 1.6.2007
Vybrané provedení:Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications (Withdrawn 2020)
NEPLATNÁ vydána dne 1.6.2011
Vybrané provedení:Poslední aktualizace: 30.10.2025 (Počet položek: 2 241 708)
© Copyright 2025 NORMSERVIS s.r.o.