Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
ASTM - Společnost ASTM International je jednou z největších nezávislých organizací pro rozvoj norem ve světě - spolehlivý zdroj technických norem pro materiály, výrobky, systémy a služby. Normy společnosti ASTM International jsou známé svojí vysokou technickou kvalitou a aktuálností v rámci trhu, a proto hrají důležitou roli v informační infrastruktuře, která řídí projekci, výrobu a obchod v globální ekonomice. ASTM vydává normy zabývající se kovy, hořlavostí, chemickými výrobky, mazivy, fosilními palivy, textiliemi, barvami, pryží, potrubím, forenzními vědami, elektronikou, energetikou, lékařskými přístroji a bezpočtem dalších témat.
Standard Guide for Ionizing Radiation (Total Dose) Effects Testing of Semiconductor Devices
NEPLATNÁ vydána dne 1.7.2012
Vybrané provedení:Standard Guide for Ionizing Radiation (Total Dose) Effects Testing of Semiconductor Devices
NEPLATNÁ vydána dne 10.5.1998
Vybrané provedení:Guide for Measurement of Ionizing Dose-Rate Survivability and Burnout of Semiconductor Devices
NEPLATNÁ vydána dne 1.1.2011
Vybrané provedení:Guide for Measurement of Ionizing Dose-Rate Survivability and Burnout of Semiconductor Devices (Withdrawn 2023)
NEPLATNÁ vydána dne 1.3.2018
Vybrané provedení:Guide for Measurement of Ionizing Dose-Rate Burnout of Semiconductor Devices
NEPLATNÁ vydána dne 10.5.1998
Vybrané provedení:Guide for Measurement of Ionizing Dose-Rate Burnout of Semiconductor Devices
NEPLATNÁ vydána dne 10.5.1998
Vybrané provedení:Test Method for Quantifying Tungsten Silicide Semiconductor Process Films for Composition and Thickness
NEPLATNÁ vydána dne 10.5.1998
Vybrané provedení:Test Method for Quantifying Tungsten Silicide Semiconductor Process Films for Composition and Thickness
NEPLATNÁ vydána dne 10.5.1998
Vybrané provedení:Test Method for Quantifying Tungsten Silicide Semiconductor Process Films for Composition and Thickness (Withdrawn 2020)
NEPLATNÁ vydána dne 1.6.2011
Vybrané provedení:Practice for Submersion of a Membrane Switch
NEPLATNÁ vydána dne 1.5.2010
Vybrané provedení:Poslední aktualizace: 10.11.2025 (Počet položek: 2 243 715)
© Copyright 2025 NORMSERVIS s.r.o.