Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
ASTM - Společnost ASTM International je jednou z největších nezávislých organizací pro rozvoj norem ve světě - spolehlivý zdroj technických norem pro materiály, výrobky, systémy a služby. Normy společnosti ASTM International jsou známé svojí vysokou technickou kvalitou a aktuálností v rámci trhu, a proto hrají důležitou roli v informační infrastruktuře, která řídí projekci, výrobu a obchod v globální ekonomice. ASTM vydává normy zabývající se kovy, hořlavostí, chemickými výrobky, mazivy, fosilními palivy, textiliemi, barvami, pryží, potrubím, forenzními vědami, elektronikou, energetikou, lékařskými přístroji a bezpočtem dalších témat.
Standard Guide for Scope of Performance of First Responders Who Practice in the Wilderness or Delayed or Prolonged Transport Settings
NEPLATNÁ vydána dne 15.8.1995
Vybrané provedení:Standard Guide for Scope of Performance of First Responders Who Practice in the Wilderness or Delayed or Prolonged Transport Settings
NEPLATNÁ vydána dne 15.8.1995
Vybrané provedení:Standard Guide for Scope of Performance of First Responders Who Practice in the Wilderness or Delayed or Prolonged Transport Settings
NEPLATNÁ vydána dne 1.3.2009
Vybrané provedení:Standard Guide for Scope of Performance of First Responders Who Practice in the Wilderness or Delayed or Prolonged Transport Settings (Withdrawn 2025)
NEPLATNÁ vydána dne 1.6.2016
Vybrané provedení:Standard Test Method for Measuring Surface Sodium, Aluminum, Potassium, and Iron on Silicon and EPI Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry
NEPLATNÁ vydána dne 10.5.1998
Vybrané provedení:Standard Test Method for Measuring Surface Sodium, Aluminum, Potassium, and Iron on Silicon and EPI Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry (Withdrawn 2003)
NEPLATNÁ vydána dne 10.5.1998
Vybrané provedení:Standard Practice for Determination of Uniformity of Thin Films on Silicon Wafers (Withdrawn 2003)
NEPLATNÁ vydána dne 10.5.2002
Vybrané provedení:Standard Practice for Determination of Uniformity of Thin Films on Silicon Wafers
NEPLATNÁ vydána dne 1.1.1996
Vybrané provedení:Standard Test Method for Measurement of Interstitial Oxygen Content of Silicon Wafers by Infrared Absorption Spectroscopy with p-Polarized Radiation Incident at the Brewster Angle
NEPLATNÁ vydána dne 15.9.1995
Vybrané provedení:Standard Test Method for Measurement of Interstitial Oxygen Content of Silicon Wafers by Infrared Absorption Spectroscopy with p-Polarized Radiation Incident at the Brewster Angle (Withdrawn 2003) (Includes all amendments And changes 8/16/2017).
NEPLATNÁ vydána dne 15.9.1995
Vybrané provedení:Poslední aktualizace: 02.04.2026 (Počet položek: 2 270 295)
© Copyright 2026 NORMSERVIS s.r.o.