Cookies
Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Informace o normě:
Označení normy: ISO 8181:2023
Datum vydání normy: 16.10.2023
Kód zboží: NS-1156171
Počet stran: 10
Přibližná hmotnost: 30 g (0.07 liber)
Země: Mezinárodní technická norma
Kategorie: Technické normy ISO
Kategorie - podobné normy:
Strojírenství (názvosloví)
Povrchová úprava a povlakování obecně
Anotace textu normy ISO 8181:2023 :
Description / Abstract: This document defines general terms and film growth processes for atomic layer deposition (ALD). ALD technique is classified into conventional time separated ALD and spatial ALD according to the separation between sequential surface reactions of precursors on substrate. Besides planar substrate, ALD can be used for coating on micro-nano particles, which is developed as powder ALD. Some energy enhanced ALD techniques are also included. This document specifies the processes of different ALD methods. This document applies to the process of ALD. This document does not apply to the deposited materials or specific nanostructures. This document applies to industrial production, scientific research, teaching, publishing and scientific and technological communications related to ALD.
Doporučujeme:
Aktualizace technických norem
Chcete mít jistotu, že používáte pouze platné technické normy?
Nabízíme Vám řešení, které Vám zajistí měsíční přehled o aktuálnosti norem, které používáte.
Chcete vědět více informací? Podívejte se na tuto stránku.
