Cookies
Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
ISO 21859:2019
Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) — Test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment
Přeložit název
NORMA vydána dne 18.6.2019
Informace o normě:
Označení normy: ISO 21859:2019
Datum vydání normy: 18.6.2019
Kód zboží: NS-953202
Počet stran: 4
Přibližná hmotnost: 12 g (0.03 liber)
Země: Mezinárodní technická norma
Kategorie: Technické normy ISO
Kategorie - podobné normy:
Anotace textu normy ISO 21859:2019 :
Description / Abstract: This document specifies a test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment. It is applicable to ceramic components of plasma-resistant components in dry etching chambers used in semiconductor manufacturing.
Doporučujeme:
Aktualizace zákonů
Chcete mít jistotu o platnosti užívaných předpisů?
Nabízíme Vám řešení, abyste mohli používat stále platné (aktuální) legislativní předpisy.
Chcete vědět více informací? Podívejte se na tuto stránku.
