Cookies
Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
ISO 21466:2019
Microbeam analysis — Scanning electron microscopy — Method for evaluating critical dimensions by CD-SEM
Přeložit název
NORMA vydána dne 13.12.2019
Informace o normě:
Označení normy: ISO 21466:2019
Datum vydání normy: 13.12.2019
Kód zboží: NS-978498
Počet stran: 47
Přibližná hmotnost: 141 g (0.31 liber)
Země: Mezinárodní technická norma
Kategorie: Technické normy ISO
Kategorie - podobné normy:
Anotace textu normy ISO 21466:2019 :
Description / Abstract: This document specifies the structure model with related parameters, file format and fitting procedure for characterizing critical dimension (CD) values for wafer and photomask by imaging with a critical dimension scanning electron microscope (CD-SEM) by the model-based library (MBL) method. The method is applicable to linewidth determination for specimen, such as, gate on wafer, photomask, single isolated or dense line feature pattern down to size of 10 nm.
Doporučujeme:
