Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Surface chemical analysis — Depth profiling — Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
Přeložit název
NORMA vydána dne 1.3.2022
Označení normy: ISO 17109:2022-ed.2.0
Datum vydání normy: 1.3.2022
Kód zboží: NS-1051392
Počet stran: 21
Přibližná hmotnost: 63 g (0.14 liber)
Země: Mezinárodní technická norma
Kategorie: Technické normy ISO
Poslední aktualizace: 17.05.2026 (Počet položek: 2 278 942)
© Copyright 2026 NORMSERVIS s.r.o.