Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Method for depth profiling of arsenic in silicon
Automaticky přeložený název:
Surface chemická analýza - Sekundární-ion hmotnostní spektrometrie - Metoda hloubkové profilování arsenu v křemíku
NORMA vydána dne 8.11.2010
Označení normy: ISO 12406:2010
Datum vydání normy: 8.11.2010
Kód zboží: NS-423985
Počet stran: 13
Přibližná hmotnost: 39 g (0.09 liber)
Země: Mezinárodní technická norma
Kategorie: Technické normy ISO
Description / Abstract: ISO 12406:2010 specifies a secondary-ion mass spectrometric method using magnetic-sector or quadrupole mass spectrometers for depth profiling of arsenic in silicon, and using stylus profilometry or optical interferometry for depth calibration. This method is applicable to single-crystal, poly-crystal or amorphous silicon specimens with arsenic atomic concentrations between 1 x 1016 atoms/cm3 and 2,5 x 1021 atoms/cm3, and to crater depths of 50 nm or deeper.
Chcete mít jistotu, že používáte pouze platné technické normy?
Nabízíme Vám řešení, které Vám zajistí měsíční přehled o aktuálnosti norem, které používáte.
Chcete vědět více informací? Podívejte se na tuto stránku.
Poslední aktualizace: 05.10.2025 (Počet položek: 2 237 498)
© Copyright 2025 NORMSERVIS s.r.o.