Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Semiconductor devices - Reliability test method for silicon carbide discrete metal-oxide semiconductor field effect transistors - Part 1: Test method for bias temperature instability
Přeložit název
NORMA vydána dne 21.4.2022
Označení normy: IEC 63275-1-ed.1.0
Datum vydání normy: 21.4.2022
Kód zboží: NS-1055629
Přibližná hmotnost: 300 g (0.66 liber)
Země: Mezinárodní technická norma
Kategorie: Technické normy IEC
IEC 63275-1:2022 gives a test method to evaluate gate threshold voltage shift of silicon carbide (SiC) power metal-oxide-semiconductor field-effect transistors (MOSFETs) using room temperature readout after applying continuous positive gate-source voltage stress at elevated temperature. The proposed method accepts a certain amount of recovery by allowing large delay times between stress and measurement (up to 10 h). L’IEC 63275-1:2022 donne une methode d’essai pour evaluer le decalage de la tension de seuil de grille des transistors a effet de champ metal-oxyde-semiconducteurs (MOSFET) de puissance en carbure de silicium (SiC) en utilisant un releve a temperature ambiante apres avoir applique une contrainte de tension grille-source positive continue a temperature elevee. La methode proposee accepte une certaine quantite de recouvrement en autorisant des decalages importants entre la contrainte et la mesure (jusqu’a 10 h).
Chcete mít jistotu, že používáte pouze platné technické normy?
Nabízíme Vám řešení, které Vám zajistí měsíční přehled o aktuálnosti norem, které používáte.
Chcete vědět více informací? Podívejte se na tuto stránku.
Poslední aktualizace: 17.04.2025 (Počet položek: 2 197 070)
© Copyright 2025 NORMSERVIS s.r.o.