Cookies
Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
IEC 62880-1-ed.1.0
Semiconductor devices - Stress migration test standard - Part 1: Copper stress migration test standard
Přeložit název
NORMA vydána dne 23.8.2017
Informace o normě:
Označení normy: IEC 62880-1-ed.1.0
Datum vydání normy: 23.8.2017
Kód zboží: NS-693522
Počet stran: 24
Přibližná hmotnost: 72 g (0.16 liber)
Země: Mezinárodní technická norma
Kategorie: Technické normy IEC
Kategorie - podobné normy:
Anotace textu normy IEC 62880-1-ed.1.0 :
IEC 62880-1:2017(E) describes a constant temperature (isothermal) aging method for testing copper (Cu) metallization test structures on microelectronics wafers for susceptibility to stress-induced voiding (SIV). This method is to be conducted primarily at the wafer level of production during technology development, and the results are to be used for lifetime prediction and failure analysis. Under some conditions, the method can be applied to package-level testing. This method is not intended to check production lots for shipment, because of the long test time.
Doporučujeme:
Aktualizace technických norem
Chcete mít jistotu, že používáte pouze platné technické normy?
Nabízíme Vám řešení, které Vám zajistí měsíční přehled o aktuálnosti norem, které používáte.
Chcete vědět více informací? Podívejte se na tuto stránku.
