Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 47: Silicon based MEMS fabrication technology - Measurement method of bending strength of microstructures
Přeložit název
NORMA vydána dne 23.8.2024
Označení normy: IEC 62047-47-ed.1.0
Datum vydání normy: 23.8.2024
Kód zboží: NS-1196030
Přibližná hmotnost: 300 g (0.66 liber)
Země: Mezinárodní technická norma
Kategorie: Technické normy IEC
IEC 62047-47:2024 specifies the requirements and testing method to measure the bending strength of microstructures which are fabricated by micromachining technology used in silicon-based micro-electromechanical system (MEMS). This document is applicable to the in-situ bending strength measurement of microstructures manufactured by microelectronic technology process and other micromachining technology. With the devices scaling, the bending strength degradation, induced by defects and contaminations, becomes more severe. This document specifies an in-situ testing method of the bending strength based on MEMS technique. This document does not need intricate instruments (such as scanning probe microscopy and nanoindenter) and special test specimens. Since in-situ on-chip tester in this document and device are fabricated with the same process on the same wafer, this document can give some practical reference for the design part.
Chcete mít jistotu o platnosti užívaných předpisů?
Nabízíme Vám řešení, abyste mohli používat stále platné (aktuální) legislativní předpisy.
Chcete vědět více informací? Podívejte se na tuto stránku.
Poslední aktualizace: 14.11.2025 (Počet položek: 2 243 651)
© Copyright 2025 NORMSERVIS s.r.o.