Cookies
Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
IEC 62047-26-ed.1.0
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 26: Description and measurement methods for micro trench and needle structures
Automaticky přeložený název:
Polovodičové součástky - Micro-elektromechanické zařízení - Část 26: Popis a metody měření pro mikro příkopu a jehly struktur
NORMA vydána dne 7.1.2016
Informace o normě:
Označení normy: IEC 62047-26-ed.1.0
Datum vydání normy: 7.1.2016
Kód zboží: NS-625046
Počet stran: 57
Přibližná hmotnost: 171 g (0.38 liber)
Země: Mezinárodní technická norma
Kategorie: Technické normy IEC
Kategorie - podobné normy:
Anotace textu normy IEC 62047-26-ed.1.0 :
IEC 62047-26:2016 specifies descriptions of trench structure and needle structure in a micrometer scale. In addition, it provides examples of measurement for the geometry of both structures. For trench structures, this standard applies to structures with a depth of 1 µm to 100 µm; walls and trenches with respective widths of 5 µm to 150 µm; and aspect ratio of 0,006 7 to 20. For needle structures, the standard applies to structures with three or four faces with a height, horizontal width and vertical width of 2 µm or larger, and with dimensions that fit inside a cube with sides of 100 µm. This standard is applicable to the structural design of MEMS and geometrical evaluation after MEMS processes. LIEC 62047-26:2016 specifie des descriptions de structures de tranchees et de structures daiguille a lechelle micrometrique. En outre, elle donne des exemples de mesures de la geometrie des deux structures. Pour les structures de tranchees, la presente norme sapplique a des structures de profondeur comprise entre 1 µm et 100 µm, avec des parois et des tranchees de largeur comprise entre 5 µm et 150 µm et avec un rapport hauteur/largeur compris entre 0,006 7 et 20. Pour les structures daiguille, la norme sapplique a des structures a trois ou quatre faces dont la hauteur, la largeur horizontale et la largeur verticale sont superieures ou egales a 2 µm, et dont les dimensions permettent de placer chaque structure dans un cube de 100 µm de cote. La presente norme sapplique a la conception structurelle de procedes MEMS et a leur appreciation geometrique.
Doporučujeme:
