Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 2: Silicon-dioxide coating, optical method.
Přeložit název
NORMA vydána dne 1.8.2023
Označení normy: DIN 50453-2:2023-08
Datum vydání normy: 1.8.2023
Kód zboží: NS-1148497
Počet stran: 9
Přibližná hmotnost: 27 g (0.06 liber)
Země: Německá technická norma
Kategorie: Technické normy DIN
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen - Teil 2: Siliciumdioxid-Schichten, Optisches Verfahren.
Chcete mít jistotu o platnosti užívaných předpisů?
Nabízíme Vám řešení, abyste mohli používat stále platné (aktuální) legislativní předpisy.
Chcete vědět více informací? Podívejte se na tuto stránku.
Poslední aktualizace: 21.08.2026 (Počet položek: 2 298 377)
© Copyright 2026 NORMSERVIS s.r.o.