Cookies
Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
DIN 50453-2:1990-10
Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium-dioxid coating; optical method.
Automaticky přeložený název:
Zkoušení materiálů na polovodičových technologií; stanovení sazeb etch leptání směsí; Křemík-dioxid povlak; optická metoda.
NORMA vydána dne 1.10.1990
Informace o normě:
Označení normy: DIN 50453-2:1990-10
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 1.10.1990
Kód zboží: NS-203871
Počet stran: 2
Přibližná hmotnost: 6 g (0.01 liber)
Země: Německá technická norma
Kategorie: Technické normy DIN
Anotace textu normy DIN 50453-2:1990-10 :
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen; Siliciumdioxid-Schichten; Optisches Verfahren.
Doporučujeme:
