Cookies
Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
ASTM F2113-01(2007)
Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications
Automaticky přeložený název:
Standardní Příručka pro analýzu a reporting obsah nečistot a jemnost vysoké čistotě Kovové rozprašování cíle pro elektronické Thin Film Applications
NORMA vydána dne 1.6.2007
Informace o normě:
Označení normy: ASTM F2113-01(2007)
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 1.6.2007
Kód zboží: NS-52870
Počet stran: 2
Přibližná hmotnost: 6 g (0.01 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM
Anotace textu normy ASTM F2113-01(2007) :
Keywords:
electronics, purity analysis, purity grade, sputtering, target, thin film, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)
Doplňující informace
| 1. Scope | ||
|
1.1 This guide covers sputtering targets used as thin film source material in fabricating semiconductor electronic devices. It should be used to develop target specifications for specific materials and should be referenced therein. 1.2 This standard sets purity grade levels, analytical methods and impurity content reporting method and format. 1.2.1 The grade designation is a measure of total metallic impurity content. The grade designation does not necessarily indicate suitability for a particular application because factors other than total metallic impurity may influence performance. |
||
| 2. Referenced Documents | ||
|
