Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
Standard Specification for High Purity Titanium Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications
Automaticky přeložený název:
Standard Specification pro High Purity titanové rozprašovacích pro elektronickou Thin Film aplikací
NORMA vydána dne 15.6.2008
Označení normy: ASTM F1709-97(2008)
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 15.6.2008
Kód zboží: NS-51256
Počet stran: 3
Přibližná hmotnost: 9 g (0.02 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM
Keywords:
coating, sputtering, target, thin film, titanium, Electronic materials/applications--specifications, Electronic thin-film applications--specifications, High-purity titanium, Sputtering process/targets--specifications, Thin film applications, Titanium sputtering targets, Titanium (Ti)/alloys--specifications, ICS Number Code 31.120 (Electronic display devices)
1. Scope | ||
1.1 This specification covers pure titanium sputtering targets used as a raw material in fabricating semiconductor electronic devices. 1.2 This standard sets purity grade levels, physical attributes, analytical methods, and packaging. 1.2.1 The grade designation is a measure of total metallic impurity content. The grade designation does not necessarily indicate suitability for a particular application because factors other than total metallic impurity may influence performance. |
||
2. Referenced Documents | ||
|
Historická
1.9.2011
Historická
1.4.2010
Historická
15.6.2008
Historická
15.6.2008
Chcete pravidelně odebírat informace o nově vycházejících normách z celého světa a to zcela zdarma?
Přihlašte se k odběru. Vše je velice jednoduché a absolutně ZDARMA.
Na výběr máte vydavatele z celého světa.
Poslední aktualizace: 01.08.2025 (Počet položek: 2 211 585)
© Copyright 2025 NORMSERVIS s.r.o.