Cookies
Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
ASTM F1709-97(2002)
Standard Specification for High Purity Titanium Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications
Automaticky přeložený název:
Standardní specifikace pro High Purity titanové rozprašování cíle pro elektronické Thin Film Applications
NORMA vydána dne 10.12.2002
Informace o normě:
Označení normy: ASTM F1709-97(2002)
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 10.12.2002
Kód zboží: NS-51255
Počet stran: 3
Přibližná hmotnost: 9 g (0.02 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM
Anotace textu normy ASTM F1709-97(2002) :
Keywords:
coating, sputtering, target, thin film, titanium, ICS Number Code 31.120 (Electronic display devices)
Doplňující informace
| 1. Scope | ||
|
1.1 This specification covers pure titanium sputtering targets used as a raw material in fabricating semiconductor electronic devices. 1.2 This standard sets purity grade levels, physical attributes, analytical methods, and packaging. 1.2.1 The grade designation is a measure of total metallic impurity content. The grade designation does not necessarily indicate suitability for a particular application because factors other than total metallic impurity may influence performance. |
||
| 2. Referenced Documents | ||
|
Doporučujeme:
