Cookies
Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
ASTM F154-02
Standard Guide for Identification of Structures and Contaminants Seen on Specular Silicon Surfaces (Withdrawn 2003)
Automaticky přeložený název:
Standardní Příručka pro identifikaci struktur a kontaminující látky , které vidíte na Fotoaparáty površích křemíku (Withdrawn 2003 )
NORMA vydána dne 10.1.2001
Informace o normě:
Označení normy: ASTM F154-02
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 10.1.2001
Kód zboží: NS-50669
Počet stran: 13
Přibližná hmotnost: 39 g (0.09 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM
Anotace textu normy ASTM F154-02 :
Keywords:
contaminant, defects, dislocation, epitaxial, fracture, preferential etch, scratch, shallow pit, silicon, slip, stacking fault, ICS Number Code 17.040.20 (Properties of surfaces)
Doplňující informace
| 1. Scope |
|
This standard was transferred to SEMI (www.semi.org) May 2003 1.1 The purpose of this guide is to list, illustrate, and provide reference for various characteristic features and contaminants that are seen on highly specular silicon wafers. Recommended practices for delineation and observation of these artifacts are referenced. The artifacts described in this guide are intended to parallel and support the content of the SEMI M18. These artifacts and common synonyms are arranged alphabetically in Tables 1 and 2 and illustrated in Figs. 1-68 . |
Doporučujeme:
