Cookies
Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
ASTM F1238-95(1999)
Standard Specification for Refractory Silicide Sputtering Targets for Microelectronic Applications
Automaticky přeložený název:
Standardní specifikace pro Refrakterní silicidu rozprašování cíle pro mikroelektronických aplikací
NORMA vydána dne 10.12.1999
Informace o normě:
Označení normy: ASTM F1238-95(1999)
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 10.12.1999
Kód zboží: NS-49599
Počet stran: 2
Přibližná hmotnost: 6 g (0.01 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM
Anotace textu normy ASTM F1238-95(1999) :
Keywords:
density, microelectronics, molybdenum, disilicide, refractory silicides, sputtering, sputtering targets, tantalum disilicide, titanium disilicide, tungsten disilicide, ICS Number Code 31.100 (Electronic tubes)
Doplňující informace
| 1. Scope |
|
1.1 This specification covers sputtering targets fabricated from metallic silicides (molybdenum silicide, tantalum silicide, titanium silicide, and tungsten silicide). These targets are referred to as refractory silicide targets, and are intended for use in microelectronic applications. 1.2 The values stated in SI units are regarded as standard. |
Doporučujeme:
