Cookies
Potřebujeme váš souhlas k využití jednotlivých dat, aby se vám mimo jiné mohly ukazovat informace týkající se vašich zájmů. Souhlas udělíte kliknutím na tlačítko „OK“.
ASTM F1152-02
Standard Test Method for Dimensions of Notches on Silicon Wafers (Withdrawn 2003)
Automaticky přeložený název:
Standardní zkušební metoda pro Rozměry zářezy na křemíkových plátků (Withdrawn 2003 )
NORMA vydána dne 10.1.2002
Informace o normě:
Označení normy: ASTM F1152-02
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 10.1.2002
Kód zboží: NS-49310
Počet stran: 4
Přibližná hmotnost: 12 g (0.03 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM
Anotace textu normy ASTM F1152-02 :
Keywords:
notch, notch dimension, optical comparator, silicon, wafer, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)
Doplňující informace
| 1. Scope |
|
This standard was transferred to SEMI (www.semi.org) May 2003 1.1 This test method covers a nondestructive procedure to determine whether or not the dimensions of fiducial notches on silicon wafers fall within specified limits. 1.2 The values stated in SI units are to be regarded as the standard. The values given in parentheses are for information only. 1.3 This standard does not purport to address all of the safety problems, if any, associated with its use. It is the responsibility of the user of this standard to establish appropriate safety and health practices and determine the applicability of regulatory limitations prior to use. |
Doporučujeme:
