Surface chemical analysis—Depth profiling—Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
NORMA vydána dne 31.12.2021
Označení normy: GB/T 41064-2021
Datum vydání normy: 31.12.2021
Země: Čínská technická norma
Kategorie: Technické normy GB