GB/T 24580-2009

Test method for measuring boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry

NORMA vydána dne 30.10.2009

Anglicky a čínsky -
Elektronické PDF (5753.20 CZK)

Anglicky a čínsky -

Tištěné (5753.20 CZK)

The information about the standard:

Designation standards: GB/T 24580-2009
Publication date standards: 30.10.2009
Country: Chinese technical standard
Kategorie: Technické normy GB