GB/T 14847-2025

Test method for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates—Infrared reflectance method

NORMA vydána dne 31.10.2025

Anglicky a čínsky -
Elektronické PDF (4968.70 CZK)

Anglicky a čínsky -

Tištěné (4968.70 CZK)

The information about the standard:

Designation standards: GB/T 14847-2025
Publication date standards: 31.10.2025
Country: Chinese technical standard
Kategorie: Technické normy GB