
Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 2: Silicon-dioxide coating, optical method.
NORMA vydána dne 1.8.2023
Označení normy: DIN 50453-2:2023-08
Datum vydání normy: 1.8.2023
Počet stran: 9
Přibližná hmotnost: 27 g (0.06 liber)
Země: Německá technická norma
Kategorie: Technické normy DIN
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen - Teil 2: Siliciumdioxid-Schichten, Optisches Verfahren.