
Testing of materials for semiconductor technology - Determination of impurities in carrier gases and dopant gases - Part 2: Determination of Oxygen impurities in Nitrogen, Argon, Helium, Neon and Hydrogen using a galvanic cell.
NORMA vydána dne 1.3.2026
Označení normy: DIN 50450-2:2026-03
Datum vydání normy: 1.3.2026
Počet stran: 9
Přibližná hmotnost: 27 g (0.06 liber)
Země: Německá technická norma
Kategorie: Technické normy DIN
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen - Teil 2: Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Helium, Neon und Wasserstoff mittels einer galvanischen Messzelle.