ASTM F518-77(1991)E01

Practice for Determining Effective Adhesion of Photoresist to Hard-Surface Photomask Banks and Semiconductor Wafers During Etching (Withdrawn 1996)

Anglicky -
Elektronické PDF (1709.30 CZK)

Anglicky -

Tištěné (1709.30 CZK)

Informace o normě:

Označení normy: ASTM F518-77(1991)E01
Poznámka: NEPLATNÁ
Počet stran: 5
Přibližná hmotnost: 15 g (0.03 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM