ASTM F950-98

Standard Test Method for Measuring the Depth of Crystal Damage of a Mechanically Worked Silicon Slice Surface by Angle Polishing and Defect Etching

NORMA vydána dne 10.5.1998

Anglicky -
PDF - okamžité stažení (1756.50 CZK)

Anglicky -

Tištěné (1756.50 CZK)

Informace o normě:

Označení normy: ASTM F950-98
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 10.5.1998
Počet stran: 5
Přibližná hmotnost: 15 g (0.03 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM

Anotace textu normy ASTM F950-98 :

Keywords:
bevel polish, damage-depth, defect, preferential etch, silicon, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)