ASTM F950-02

Standard Test Method for Measuring the Depth of Crystal Damage of a Mechanically Worked Silicon Slice Surface by Angle Polishing and Defect Etching (Withdrawn 2003)

NORMA vydána dne 10.12.2002

Anglicky -
PDF - okamžité stažení (1739.30 CZK)

Anglicky -

Tištěné (1739.30 CZK)

Informace o normě:

Označení normy: ASTM F950-02
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 10.12.2002
Počet stran: 6
Přibližná hmotnost: 18 g (0.04 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM

Anotace textu normy ASTM F950-02 :

Keywords:
bevel polish, damage-depth, defect, preferential etch, silicon, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)