ASTM F2113-01(2011)

Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications (Withdrawn 2020)

NORMA vydána dne 1.6.2011

Anglicky -
PDF - okamžité stažení (1626.40 CZK)

Anglicky -

Tištěné (1626.40 CZK)

Informace o normě:

Označení normy: ASTM F2113-01(2011)
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 1.6.2011
Počet stran: 2
Přibližná hmotnost: 6 g (0.01 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM

Anotace textu normy ASTM F2113-01(2011) :

Keywords:
electronics, purity analysis, purity grade, sputtering, target, thin film, Electronic thin-film applications, High-purity metallic sputtering targets, Impurities--electronic materials/applications, Semiconductor device testing, Sputtering process/targets, Target specifications, Thin film applications, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)