ASTM F1894-98(2011)

Test Method for Quantifying Tungsten Silicide Semiconductor Process Films for Composition and Thickness (Withdrawn 2020)

NORMA vydána dne 1.6.2011

Anglicky -
Online zabezpečené PDF (1746.20 CZK)

Anglicky -

Tištěné (1746.20 CZK)

Informace o normě:

Označení normy: ASTM F1894-98(2011)
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 1.6.2011
Počet stran: 7
Přibližná hmotnost: 21 g (0.05 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM

Anotace textu normy ASTM F1894-98(2011) :

Keywords:
analysis of tungsten silicide, backscattering analysis, composition, metallization films, quantitative analysis, RBS, WSix, Backscattering analysis, Composition analysis--semiconductor applications, Density--electronic applications, Metal electronic components/devices, Quantitative analysis/measurement, Rutherford backscattering spectrometry, Tungsten silicide (WSix), ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)