NORMSERVIS s.r.o.

ASTM F1810-97(2002)

Standard Test Method for Counting Preferentially Etched or Decorated Surface Defects in Silicon Wafers (Withdrawn 2003)

NORMA vydána dne 10.6.1997

Anglicky -
Online zabezpečené PDF (1608.80 CZK)
Anglicky -
Tištěné (1608.80 CZK)

Informace o normě:

Označení normy: ASTM F1810-97(2002)
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 10.6.1997
Počet stran: 4
Přibližná hmotnost: 12 g (0.03 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM

Anotace textu normy ASTM F1810-97(2002) :

Keywords:
defect density, dislocation, grain boundary, microscopic, polycrystalline imperfection, preferential etch, silicon, slip, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)