
Standard Test Method for Counting Preferentially Etched or Decorated Surface Defects in Silicon Wafers
NORMA vydána dne 10.6.1997
Označení normy: ASTM F1810-97
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 10.6.1997
Počet stran: 4
Přibližná hmotnost: 12 g (0.03 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM
Keywords:
defect density, dislocation, grain boundary, microscopic, polycrystalline imperfection, preferential etch, silicon, slip