NORMSERVIS s.r.o.

ASTM F1727-02

Standard Practice for Detection of Oxidation Induced Defects in Polished Silicon Wafers (Withdrawn 2003)

NORMA vydána dne 10.12.2002

Anglicky -
PDF - okamžité stažení (1540.30 CZK)
Anglicky -
Tištěné (1540.30 CZK)

Informace o normě:

Označení normy: ASTM F1727-02
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 10.12.2002
Počet stran: 3
Přibližná hmotnost: 9 g (0.02 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM

Anotace textu normy ASTM F1727-02 :

Keywords:
defects, dislocation, epitaxy, hillock, imperfections, oxidation, preferential etch, shallow pit, silicon, slip, stacking fault, swirl, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)