Standard Guide for Analyis of Crystallographic Perfection of Silicon Wafers
NORMA vydána dne 10.6.1997
Označení normy: ASTM F1726-97
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 10.6.1997
Počet stran: 3
Přibližná hmotnost: 9 g (0.02 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM
Keywords:
dislocation, epitaxy, grain boundaries, hillock, polycrystalline imperfections, preferential etch, shallow pit, silicon, slip, stacking fault, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)