NORMSERVIS s.r.o.

ASTM F1726-02

Standard Guide for Analyis of Crystallographic Perfection of Silicon Wafers (Withdrawn 2003)

NORMA vydána dne 10.12.2002

Anglicky -
Online zabezpečené PDF (1536.30 CZK)
Anglicky -
Tištěné (1536.30 CZK)

Informace o normě:

Označení normy: ASTM F1726-02
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 10.12.2002
Počet stran: 3
Přibližná hmotnost: 9 g (0.02 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM

Anotace textu normy ASTM F1726-02 :

Keywords:
dislocation, epitaxy, grain boundaries, hillock, polycrystalline imperfections, preferential etch, shallow pit, silicon, slip, stacking fault, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)