Standard Test Method for Measuring Oxygen Concentration in Heavily Doped Silicon Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry (Includes all amendments And changes 3/2/2021).
NORMA vydána dne 1.1.1992
Označení normy: ASTM F1366-92(1997)e1
Poznámka: NEPLATNÁ
Datum vydání normy: 1.1.1992
Počet stran: 5
Přibližná hmotnost: 15 g (0.03 liber)
Země: Americká technická norma
Kategorie: Technické normy ASTM
Keywords:
FTIR, oxygen, secondary ion mass spectometry, silicon